芯上微装在半导体设备展上宣布，其自主研发的AST6200步进光刻机正式发运，这款设备实现350nm线宽加工，填补了国内中低端光刻设备的市场空白，为功率半导体等领域提供国产化解决方案。
AST6200的核心竞争力体现在“精度+成本+服务”三重优势：基于自主研发的“双光路干涉定位系统”，定位精度达±0.5μm，采用汞灯紫外光源适配多场景需求；售价仅为进口同类设备的60%，售后服务响应时间缩短至4小时内；核心部件国产化率达85%，其中光学镜头由长春光机所配套、精密工作台采用大族电机驱动，交付周期仅为进口设备的1/3。
目前，该设备已获得士兰微、斯达半导等功率芯片厂商的首批20台订单，主要用于IGBT芯片的栅极光刻工序。芯上微装董事长表示，下一步将研发280nm工艺设备，重点突破深紫外光源技术，计划2027年实现中高端光刻设备的国产替代，进一步完善国内半导体设备产业链。
